Komplexer Typ Elektrostatischer Chuck / Heizung

Der komplexe Typ Elektrostatischer Chuck und Heizung sind kompatibel mit dem Klemmen verschiedener Arten von Wafern, einschließlich Silizium, Galliumarsenid, Siliziumkarbid und Saphir. Diese Kompatibilität hilft, die Kosten für den Linienwechsel für Ausrüstungshersteller und Endbenutzer zu reduzieren. Durch die Verwendung von gesinterten Keramiktechnologien und Polymermodifikationstechnologien, kombiniert mit integrierter Vakuumlaminierung und thermischer Bindung, reduzieren diese Chucks den internen Wärmewiderstand, erreichen eine interne Temperaturgleichmäßigkeit und bilden eine dichte dielektrische Isolationsschicht, die die Ionenwanderungsbeständigkeit verbessert.

Komplexer Typ Elektrostatischer Chuck

• Fortgeschrittene Technologien: Verwendet gesinterte Keramik- und Polymermodifikationstechnologien für eine höhere Dichtestruktur und geringeres Ausgasen.
• Strenge Schichtkontrolle: Bietet präzise Kontrolle über die Dicke der dielektrischen Schicht und der Elektrodengruppe.
• Vielseitige Klemmfähigkeit: Kompatibel mit Wafern aus verschiedenen Materialien.
• Präzise Widerstandskontrolle: Ermöglicht eine stärkere elektrostatische Klemmkraft.
• Kostengünstig und kurze Vorlaufzeiten: Geeignet für Prozessentwicklung und Validierung neuer Ausrüstung.

Komplexer Typ Elektrostatischer Chuck mit Heizung

• Mehrzonige Heizungsanordnung: Fähig zur Implementierung mehrerer Heizzonen mit ausgezeichneter Temperaturgleichmäßigkeit (±3,5% ℃ @150℃).
• Hochdichte Laminierungstechnologie: Erreicht durch Vakuumlaminierung, mit einer maximalen Heiztemperatur von 200℃.
• Gleichmäßige Heizkurven: Bietet eine breite Palette von Heizkurveneinstellungen.
• Kostengünstig und kurze Vorlaufzeiten: Geeignet für Prozessentwicklung und Validierung neuer Ausrüstung.