日本語
製品ライン
真空チャック、ステージパーツ
アンチプラズマ材料部品
SiC（炭化ケイ素）研磨プレート
ハンドリングアーム
真空チャック、ステージパーツ
アンチプラズマ材料部品
SiC（炭化ケイ素）研磨プレート
ハンドリングアーム
アプリケーション
当社の製品は、以下を含むさまざまな半導体製造プロセスで広く使用されています：
ウェハハンドリング
物理蒸着（PVD）
化学蒸着（CVD）
化学機械研磨（CMP）
エッチング（ETCH）
ウェハハンドリング
物理蒸着（PVD）
化学蒸着（CVD）
化学機械研磨（CMP）
エッチング（ETCH）
これらの技術と製品に焦点を当てることで、同社は半導体およびディスプレイ産業で重要な地位を確保し、高品質で高性能な重要部品を提供しています。Applied Materials（AMAT）、LAM、NOVELLUS、ORIEL、VARIAN、Tegal、SVGなどの半導体装置ブランドの予備部品を含む、半導体産業の消耗部品に関する顧客ニーズを満たしています。
WhatsApp
电话